単結晶の基質

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中国 薄膜の基質のサファイアのウエファーAl2O3の単結晶の基質 販売のため

薄膜の基質のサファイアのウエファーAl2O3の単結晶の基質

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ブランド: Crystro
ハイライト:Al2O3サファイアのウエファー, サファイアの基質のウエファー, Al2O3単結晶の基質
  薄膜の基質の酸化アルミニウムAl2O3の単結晶の基質のサファイアのウエファー   導入:   Al2O3 (酸化アルミニウム)は優秀な超伝導の薄膜の基質である。この材料に多くの利点がある:よいthermos安定性、 高い熱伝導性および高い硬度。それはまた産業のような他の多くの分野で、防衛および保証および科学研究使用できる。   適用: 高温超伝導のフィルムのための基質材料:Yシリーズ、Laシリーズ MgB2の超伝導のフィルムを育てる基質   技術的な変数   結晶構造  M6 融点  2040℃ 密度  3.98 g/c... もっと見る
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中国 マグネシウムのアルミン酸塩MgAl2O4スピネル単結晶の基質の単一の側面は磨いた 販売のため

マグネシウムのアルミン酸塩MgAl2O4スピネル単結晶の基質の単一の側面は磨いた

価格: Negotiable
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ブランド: Crystro
ハイライト:MgAl2O4スピネル単結晶の基質, マグネシウムのアルミン酸塩単結晶の基質, マグネシウムのアルミン酸塩mgal2o4スピネル
 マグネシウムのアルミン酸塩MgAl2O4スピネル単結晶の基質 1.MgAl2O4基質の紹介 マグネシウムのアルミン酸塩スピネル(MgAl2O4)は立方構造およびそれが付いている混合された酸化物して考慮される優秀な基質材料とである。 MgAl2O4(スピネル)の単結晶は音波およびマイクロウェーブ装置および速いICのエピタキシアル基質で広く利用されている。同時に、研究はそれがIII-Vの窒化物装置のためのよい基質であることが分った。    2.MgAl2O4材料特性 化学式 MgAl2O4 結晶構造 、= 8.083 Å立方 成長方法 Czoc... もっと見る
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中国 イットリウムによって安定させるジルコニアYSZの単結晶の基質 販売のため

イットリウムによって安定させるジルコニアYSZの単結晶の基質

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ハイライト:イットリウムによって安定させるジルコニアの光学基質, YSZのイットリウムによって安定させるジルコニアの基質, YSZの単結晶の基質
    光学基質のイットリウムによって安定させるジルコニア(YSZ)の単結晶の基質   導入: イットリウム添加されたジルコニア(YSZ)の単結晶の基質は高温超伝導の薄膜の成長で使用される優秀な材料である。それによいmechanicalandの化学安定性がある。       技術的な変数:   結晶構造 立方  再方向付け端   2° (1°のスペシャル) 密度  5.8 g/cm3 ポーランド語  磨かれるシングルまたはダブルの側面 硬度   8-8.5 (mohs) オリエンテーション  <100&g... もっと見る
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中国 MgOの酸化マグネシウムの基質 販売のため

MgOの酸化マグネシウムの基質

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ハイライト:MgOの単結晶の基質, MgOの酸化マグネシウムの基質, 単結晶MgOの基質
Ferro磁気材料の薄膜のためのMgOの単結晶の基質 導入: MgOの単結晶に高温で(酸化マグネシウム)よい化学安定性、熱伝導性および絶縁材があり、高周波で小さい比誘電率および損失がある。それは重要な高温超伝導の薄膜の単結晶である。それはFerro磁気、Photo-electronic、および高いTcの超伝導体材料の薄膜のための優秀な単結晶の基質である。       適用:   高いTCの超伝導体の薄膜の基質 強磁性薄膜の基質 Photo-electronic基質     技術的な変数:   結晶構造  立方 比誘電率 9.80 密度 ... もっと見る
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中国 超伝導体の薄膜STOの水晶SrTiO3基質 販売のため

超伝導体の薄膜STOの水晶SrTiO3基質

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ハイライト:STOの水晶SrTiO3基質, 薄膜SrTiO3の基質, STOの水晶基質
超伝導体の薄膜のためのよい格子マッチSrTiO3 STOの水晶基質材料  導入: SrTiO3 (ストロンチウムのチタン酸塩)単結晶にフィルム成長のためのよく物理的なおよび機械特性がある。それはペロプスカイトの構造と材料のほとんどによく一致する。それはHTSおよび多くの酸化物のまた特別な光学窓のエピタキシアル フィルムのために基質としておよび放出させるターゲット広く使用された。  技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単一の側面/二重側面 密度 5.175 g/cm3 オリエンテーション  <100><110&... もっと見る
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中国 10*10*1mmの最後の基質の薄膜の光学単結晶の基質 販売のため

10*10*1mmの最後の基質の薄膜の光学単結晶の基質

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ハイライト:10*10*1mmの単結晶の基質, 薄膜の光学基質, 10*10*1mmの最後の基質
エピタキシアル酸化物の薄膜のための10*10*1mmの最後(ランタンのストロンチウム アルミニウム タンタルの酸化物)の基質  導入: 最後の水晶はCzochralski方法によって育ち、基質として薄膜のエピタキシアル成長のためにferroelectricおよび高温超伝導体装置で普通使用される。磁気ferro電子および超伝導性装置のエピタキシアル酸化物の薄膜のために使用されるランタンのアルミン酸塩(LaAlO3)およびストロンチウムのチタン酸塩(SrTiO3)の基質を取り替えることを期待する。     技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単... もっと見る
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中国 3.60g/Cm3スピネルMgal2o4水晶マイクロウェーブ基質の合成物質 販売のため

3.60g/Cm3スピネルMgal2o4水晶マイクロウェーブ基質の合成物質

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ハイライト:スピネルmgal2o4水晶, mgal2o4マイクロウェーブ基質, 3.60g/cm3スピネルmgal2o4
MgAl2O4スピネル水晶基質のマイクロウェーブ装置基質1.MgAl2O4基質の紹介 MgAl2O4単結晶は(MgAl2O4スピネル)立方結晶構造および優秀な光学、誘電性、熱の、および化学特性が付いている合成物質である。それはバルク音波およびマイクロウェーブ装置および速いICのエピタキシアル基質のために広く利用されている。そしてMgAl2O4はまたGaNの良質のフィルムの成長に首尾よく加えられたIII-Vの窒化物装置のためのよい基質である。    2.MgAl2O4材料特性 化学式 MgAl2O4 結晶構造 、= 8.083 Å立方 R.i. ... もっと見る
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中国 Nb:SrTiO3ニオブによって添加されるストロンチウムのチタン酸塩の単結晶の基質 販売のため

Nb:SrTiO3ニオブによって添加されるストロンチウムのチタン酸塩の単結晶の基質

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ハイライト:Nb:SrTiO3単結晶の基質, ニオブによって添加されるストロンチウムのチタン酸塩の単結晶の基質, Nb:SrTiO3ニオブによって添加されるストロンチウムの基質
   Nb:SrTiO3ニオブはストロンチウムのチタン酸塩を単結晶の基質を添加した 導入:ストロンチウムのチタン酸塩(SrTiO3)の基質は高温超伝導の酸化物の薄膜のための基質材料として一般的である。SrTiO3単結晶がペロプスカイトの構造をほとんどの材料によい格子マッチに与えるので。ニオブ(Nb)の添加されたSrTiO3 (NSTO)単結晶にSrTiO3.But Nbに同じような構造がある:SrTio3水晶に集中を添加するNbによって異なった電気抵抗の価値がある。  技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単一の側面/二重側面 密度 5.1... もっと見る
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中国 Ferro磁気薄膜の酸化マグネシウムMgOの基質 販売のため

Ferro磁気薄膜の酸化マグネシウムMgOの基質

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ハイライト:3.58 g/cm3 MgOの基質, 薄膜MgOの基質, MgOの酸化マグネシウムの基質
Ferro磁気薄膜のためのよい熱特性の酸化マグネシウムMgOの基質   導入: MgO (酸化マグネシウム) -磁気フィルムの、光学フィルムおよび高温超伝導のフィルムの生産のための単結晶の基質として広く利用されている。比誘電率および損失のマイクロウェーブ バンドが非常に小さいので。       適用:   高いTCの超伝導体の薄膜の基質 強磁性薄膜の基質 Photo-electronic基質     技術的な変数:   結晶構造  立方 比誘電率 9.80 密度  3.58 g/cm3 ポーランド語  磨かれるシングル... もっと見る
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中国 フィルム成長のストロンチウムのチタン酸塩の水晶Srtio3基質 販売のため

フィルム成長のストロンチウムのチタン酸塩の水晶Srtio3基質

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ハイライト:ストロンチウムのチタン酸塩Srtio3の基質, Srtio3基質, Srtio3ストロンチウムのチタン酸塩の水晶
フィルム成長のためのよい物理的性質SrTiO3のストロンチウムのチタン酸塩の水晶基質  導入: ストロンチウムのチタン酸塩(SrTiO3)の基質は高温超伝導の酸化物の薄膜のための基質材料として一般的である。SrTiO3単結晶がペロプスカイトの構造をほとんどの材料によい格子マッチに与えるので。  技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単一の側面/二重側面 密度 5.175 g/cm3 オリエンテーション  <100><110><111> 硬度 6-6.5 Mohs 次元 5... もっと見る
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中国 イットリウムによって安定させるジルコニアYSZの水晶ウエファーの光学基質 販売のため

イットリウムによって安定させるジルコニアYSZの水晶ウエファーの光学基質

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ハイライト:YSZの光学基質, イットリウムによって安定させるジルコニアの光学基質, YSZのウエファーの基質
薄膜のエピタキシアル成長のためのイットリウムによって安定させるジルコニア(YSZ)の水晶ウエファーの基質   導入: イットリウム添加されたジルコニア(YSZ)の単結晶の基質は高温超伝導の薄膜の成長で使用される優秀な材料である。それによい機械および化学安定性がある。       技術的な変数:   結晶構造 立方  再方向付け端   2° (1°のスペシャル) 密度  5.8 g/cm3 ポーランド語  磨かれるシングルまたはダブルの側面 硬度   8-8.5 (mohs) オリエンテーション  <100&g... もっと見る
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中国 Nb:SrTiO3 Nb:STOのニオブによって添加されるストロンチウムのチタン酸塩の光学基質 販売のため

Nb:SrTiO3 Nb:STOのニオブによって添加されるストロンチウムのチタン酸塩の光学基質

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ハイライト:Nb:SrTiO3光学基質, Nb:STOの光学基質, ニオブによって添加されるストロンチウムのチタン酸塩の基質
Nb:SrTiO3 (Nb:STOの)ニオブによって添加されるストロンチウムのチタン酸塩の水晶基質  導入: ニオブ(Nb)の添加されたSrTiO3 (NSTO)単結晶にSrTiO3.But Nbに同じような構造がある:SrTio3水晶に集中を添加するNbによって異なった電気抵抗の価値がある。  技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単一の側面/二重側面 密度 5.117 g/cm3 オリエンテーション  <100><110><111> 硬度 6 Mohs 次元 5*5*... もっと見る
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中国 最後のランタンのストロンチウム アルミニウム タンタルの酸化物の薄膜の基質 販売のため

最後のランタンのストロンチウム アルミニウム タンタルの酸化物の薄膜の基質

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ハイライト:最後の薄膜の基質, 薄膜の基質, 最後の光学基質
(ランタンのストロンチウム アルミニウム タンタルの酸化物)単結晶の薄膜の基質を持続させなさい  導入: (ストロンチウムのタンタルのランタンのアルミン酸塩)でしたり優秀なペロプスカイトの水晶、Czochralski方法によって育つことができる持続させなさい。それは高温超伝導体および他の酸化物材料とwell-matchedである。磁気ferro電子および超伝導性装置のエピタキシアル酸化物の薄膜のために使用されるランタンのアルミン酸塩(LaAlO3)およびストロンチウムのチタン酸塩(SrTiO3)の基質を取り替えることを期待する。     技術的な変数:   結晶構造 ... もっと見る
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中国 高温超伝導のフィルムの酸化アルミニウムAl2O3の基質 販売のため

高温超伝導のフィルムの酸化アルミニウムAl2O3の基質

価格: Negotiable
MOQ: 1 Piece
納期: 3-4 weeks
ブランド: Crystro
ハイライト:酸化アルミニウムAl2O3の基質, 3.97 g/cm3 Al2O3の基質, 3.97 g/cm3酸化アルミニウムの基質
高温超伝導のフィルムのための高い熱伝導性Al2O3の基質   導入: Al2O3 (酸化アルミニウム)は優秀な超伝導の薄膜の基質である。この材料に多くの利点がある:よいthermos安定性、 高い熱伝導性および高い硬度。それはまた産業のような他の多くの分野で、防衛および保証および科学研究使用できる。   適用: 高温超伝導のフィルムのための基質材料:Yシリーズ、Laシリーズ MgB2の超伝導のフィルムを育てる基質   技術的な変数   結晶構造  M6 融点  2040℃ 密度  3.98 g/cm3 ポーランド語 ... もっと見る
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中国 ストロンチウムのチタン酸塩SrTiO3 STOの単結晶の基質 販売のため

ストロンチウムのチタン酸塩SrTiO3 STOの単結晶の基質

価格: Negotiable
MOQ: 1 Piece
納期: 3-4 weeks
ブランド: Crystro
ハイライト:STOの単結晶の基質, ストロンチウムのチタン酸塩STOの基質, SrTiO3単結晶の基質
  ストロンチウムのチタン酸塩SrTiO3 STOの単結晶の基質   導入: ストロンチウムのチタン酸塩(SrTiO3)の基質は高温超伝導の酸化物の薄膜のための基質材料として一般的である。SrTiO3単結晶がペロプスカイトの構造をほとんどの材料によい格子マッチに与えるので。  技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単一の側面/二重側面 密度 5.175 g/cm3 オリエンテーション  <100><110><111> 硬度 6-6.5 Mohs 次元 5*5*0.5 ... もっと見る
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中国 HTSの薄膜CaF2カルシウム フッ化物の単結晶の基質 販売のため

HTSの薄膜CaF2カルシウム フッ化物の単結晶の基質

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ブランド: Crystro
ハイライト:CaF2単結晶の基質, カルシウム フッ化物の単結晶の基質, CaF2カルシウム フッ化物
HTSの薄膜のエピタキシアル成長のためのCaF2カルシウム フッ化物の単結晶の基質優秀な光学的性質CaF2カルシウム フッ化物の単結晶の基質 導入: CaF2単結晶にペロプスカイトの構造および優秀な光学的性質が付いているほとんどの材料が付いている優秀な格子マッチがある。それはHTSおよび多くの酸化物の薄膜のエピタキシアル成長のために基質として使用することができる。     技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単一の側面/二重側面 密度 3.18 g/cm3 オリエンテーション  <100><111>... もっと見る
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中国 10*10*0.5mmの最後の光学単結晶の基質 販売のため

10*10*0.5mmの最後の光学単結晶の基質

価格: Negotiable
MOQ: 1 Piece
納期: 3-4 weeks
ブランド: Crystro
ハイライト:最後の単結晶の基質, 10*10*0.5mmの単結晶の基質, 最後の光学基質
エピタキシアル酸化物の薄膜のための10*10*0.5mmの最後(ランタンのストロンチウム アルミニウム タンタルの酸化物)の基質  導入: ランタンのストロンチウムのアルミニウム タンタルの酸化物(La、Sr) (Al、Ta) O3 (最後)はCzochralski方法によって対なしと水晶一種の成長したペロプスカイト育つことができるである。それは高温超伝導体および他の酸化物材料とwell-matchedである。磁気ferro電子および超伝導性装置のエピタキシアル酸化物の薄膜のために使用されるランタンのアルミン酸塩(LaAlO3)およびストロンチウムのチタン酸塩(SrTiO3)の基質を取り替... もっと見る
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中国 超伝導のフィルムの酸化マグネシウムMgOの単結晶の基質 販売のため

超伝導のフィルムの酸化マグネシウムMgOの単結晶の基質

価格: Negotiable
MOQ: 1 Piece
納期: 3-4 weeks
ブランド: Crystro
ハイライト:MgOの単結晶の基質, 酸化マグネシウムの単結晶の基質, 酸化マグネシウムMgOの基質
  高温超伝導のフィルムのための酸化マグネシウムMgOの基質   導入: MgO (酸化マグネシウム) -磁気フィルムの、光学フィルムおよび高温超伝導のフィルムの生産のための単結晶の基質として広く利用されている。比誘電率および損失のマイクロウェーブ バンドが非常に小さいので。     適用:   高いTCの超伝導体の薄膜の基質 強磁性薄膜の基質 Photo-electronic基質     技術的な変数:   結晶構造  立方 比誘電率 9.80 密度  3.58 g/cm3 ポーランド語  磨かれるシングルまたはダブ... もっと見る
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中国 単結晶CaF2カルシウム フッ化物の基質 販売のため

単結晶CaF2カルシウム フッ化物の基質

価格: Negotiable
MOQ: 1 Piece
納期: 3-4 weeks
ブランド: Crystro
ハイライト:カルシウム フッ化物の基質, CaF2基質, 単結晶CaF2の基質
優秀な光学的性質CaF2カルシウム フッ化物の単結晶の基質 導入: CaF2はHTSおよび多くの酸化物の薄膜のエピタキシアル成長のための優秀な基質である。それはまた特別な光学窓のためにそして良質の放出させるターゲットとして広く使用された。     技術的な変数:   結晶構造 立方 ポーランド語 単一の側面/二重側面 密度 3.18 g/cm3 オリエンテーション  <100><111> 硬度 4 Mohs 次元 5*5*0.5 mm、10*10*0.5 mm、20*20*0.5 mm ... もっと見る
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